ライス ポリッシュ ディープ
カテゴリ:洗顔・クレンジング>洗顔パウダー

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ブランド名:TATCHA
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ライス ポリッシュ ディープ

60g・参考価格(税抜)7,000円

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ブランド名:TATCHA
商品名:ライス ポリッシュ ディープ

成分名・使用目的

予告なく変更される場合がございますので、ご了承ください。最新成分はメーカーサイト及び商品ラベルにてご確認をお願いいたします。

結晶セルロース

植物末、スクラブ成分

コメ粉

増量成分

ラウリルリン酸Na

洗浄成分、乳化成分

ラウロイルグルタミン酸Na

洗浄成分、合成界面活性剤

ステアロイルグルタミン酸Na

洗浄成分、合成界面活性剤

溶剤

ココイルグルタミン酸Na

洗浄成分

ラウリルベタイン

起泡成分、親水性増粘成分、洗浄成分、帯電防止成分、皮膚コンディショニング成分

ラウロイルメチルアラニンNa

洗浄成分

サッカロミセス/(チャ葉/オキナワモズク/コメ)発酵液

皮膚コンディショニング成分

パパイン

酵素類

ノイバラ果実エキス

香料

ヒオウギエキス

皮膚コンディショニング成分

ドクダミエキス

収れん成分、保湿・湿潤成分、抗炎性成分

コメヌカエキス

保湿・湿潤成分、美白成分、抗酸化成分

プロパンジオール

減粘成分、防腐成分、保湿・湿潤成分、溶剤

デキストリン

吸着成分、親水性増粘成分

BG

防腐成分、保湿・湿潤成分、溶剤

エチルヘキシルグリセリン

消臭成分、皮膚コンディショニング成分

カオリン

スクラブ成分、充填成分、角質除去成分

トコフェロール

抗酸化成分

ラウロイルグルタミン酸ジ(フィトステリル/オクチルドデシル)

エモリエント成分、皮膚保護成分、分散成分

エタノール

可溶化成分、収れん成分、溶剤

フェノキシエタノール

防腐成分、溶剤

シリカ

吸着成分、研磨・スクラブ成分、抗ケーキング成分、増量成分、非活性剤系分散成分、不透明化成分

酸化鉄

着色成分

グンジョウ

着色成分、顔料